| Výuka > Principy počítačů > Mikroprocesory > Fotoelektrický proces |

Fotoelektrický proces

 Fotoelektrický proces

Fotoelektrický proces

Schématický návrh obvodů je připraven pro každou vrstvu ve formě malé šablony či masky. Ta působí do značné míry jako fotografický negativ tím, že na křemíkový plátek přenese část schématu obvodů. V závislosti na typu vrstvy se na plátek následně nanesou různé vodivé nebo izolační materiály, umístí se přes něj maska a celý je vystaven ultrafialovému světlu, čímž dojde k změkčení nezakrytých oblastí. Chemická rozpouštědla následně rozpustí pouze materiál, který byl vystaven ultrafialovému záření. Vrstvy materiálu ve tvaru masky zůstávají na křemíkovém podkladě. Celý tento proces se opakuje pro zbývající vrstvy obvodů. Tyto vrstvy mají často tloušťku pouhé bakteriální buňky.

10.09.2007, 18:19 vytvořil Administrator